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      KRi 射頻離子源 IBSD 離子束濺射沉積應用
      
    
      
    
      
        
        
      
            
      
                
      
                    
      
                        起訂量：
                        面議
                    
      
                    
      
                        價　格：
                        面議
                    
      
                
      
            
      
            
      
                
      
                                        
      
                    品牌：
                    KRI
                    
      
                                                                                                    
      
                    供貨總量：
                    面議
                    
      
                    
      
                    發貨期限：
                    自買家付款之日起  3 天內發貨
                    
      
                    
      
                        所在地：
                        上海
                    
      
                    
      
                        有效期至：
                        長期有效
                    
      
                    
      
                        最后更新：
                        2023-05-04 12:00
                    
      
                    
      
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      公司基本資料信息
      
                
      
    
      
                
      
            伯東企業(上海)有限公司
        
      
                        
      
                                                                                        [誠信檔案]
        
      
                
      
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            地址上海市外高橋保稅區希雅路33號17號樓B座3層,200131
        
                  
      

      

      
            
      
        
      
        
      
            
      
                
                
            
      
            
      
                
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        品牌：
        KRI
        
                        
        
                    
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        所在地：
        上海
        
                        
        
                    
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	上海伯東美國 KRi 射頻離子源 IBSD 離子束濺射沉積應用
      
上海伯東美國 KRi 考夫曼品** RF 射頻離子源, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標, 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積 和  IBD 離子束沉積是其典型的應用.
      
KRi 離子源

      

      
	
      
KRi 離子源在 IBSD 離子束濺射沉積應用
      
通常安裝兩個離子源
      
主要濺射沉積源和二次預清潔 / 離子輔助源
      
一次氣源為惰性氣體, 二次氣源為惰性或反應性氣體
      
基板            
      
            
      
            
      聯系時請說是在機電商情網看到我的，謝謝！
      
            
      
                    
      
    
      
    
      
        
      
                    
      
    
      

      

      




       
      




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